Iontový zdroj pro čištění vzorků v ultravysokém vakuu

VK
Václav K. před 10 lety
#215375 • Praha a okolí • Chemie
Popis:
- dodávka iontového zdroje vhodného pro odprašování povrchů vzorků v ultravysokém vakuu (UHV) pomocí iontů argonu včetně elektronické řídící jednotky a jehlového dávkovacího ventilu
Lokalita:
- okres Praha - hl. město
Termín:
- od září 2014 do 15. října 2014
Kritéria:
- nejnižší nabídková cena
Pokud jste registrovaný dodavatel, přihlaste se
Číslo zakázky 215375
Datum zadání 15. 7. 2014
Datum zveřejnění 14. 7. 2014
Datum ukončení 21. 7. 2014
Cena 290 000 Kč
Druh Dodávky
Kraj Praha a okolí
Kategorie Chemie

Podobné zakázky

SA
Dodávka posypové soli
Správa A. před 2 dny
Více zakázek přímo na Váš e-mail.
JM
JM
Dodání chemikálií
Jurgita M. před 2 dny

Ještě více zakázek přímo na Vás e-mail

Stačí vyplnit Váš kontakt a my se ozveme s dalšími informacemi.

Odesláním souhlasíte s podmínkami ochrany osobních údajů a obchodními podmínkami.

Iontový zdroj pro čištění vzorků v ultravysokém vakuu

Máte-li zájem o více informací či o kontakt na zákazníka, vyplňte formulář níže a my se Vám co nejdříve ozveme zpět.

Odesláním souhlasíte s podmínkami ochrany osobních údajů a obchodními podmínkami.